-
Ultrahoge zuiverheid en isolatie: 99,5%-99,99% Al2O3-kwaliteit, volumeweerstand >1014 Ω·cm, ideaal voor hoogspanningsisolatie in ICP-etseren en ionimplantatoren.
-
Extreme plasmaweerstand: overtreft kwarts in Cl2/CF4-plasmaomgevingen, waardoor de vervangingsfrequentie met 60% wordt verminderd en de onderhoudskosten worden verlaagd.
-
Thermische stabiliteit: Duurt tot 1600°C, de koëfficiënt van thermische uitbreiding (7-8×10−6/°C) past perfect bij siliciumwafers, waardoor thermische stressfalen worden geëlimineerd.
-
Klasse 1 Cleanroom-naleving: spiegelvormig oppervlak (Ra < 0,01 μm) met minimale deeltjesvrijstelling, veilig voor onderdelen die rechtstreeks met de wafer in contact komen.
chat now