| Luogo di origine: | Cina |
|---|---|
| Marca: | YH |
| Certificazione: | ISO,CE |
| Numero di modello: | YH |
| Quantità di ordine minimo: | 10 |
| Prezzo: | Negotiated |
| Imballaggi particolari: | tramite caront o cassa di legno |
| Tempi di consegna: | 10-30 giorni |
| Termini di pagamento: | L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union |
| Capacità di alimentazione: | 10000 pezzi al mese |
| Materiale: | Ceramica di allumina ad elevata purezza (Al2O3 ≥ 99,8%) | Planarità della superficie: | ≤ 0,003 mm (3 μm) |
|---|---|---|---|
| Parallelismo: | ≤ 0,003 mm (3 μm) | Densità apparente: | ≥ 3,92 g/cm³ |
| Durezza: | 1550 HV1 / 91 HRA | Rigidità dielettrica: | 25 kV/mm |
| Temperatura di funzionamento massima: | 1400°C (continua) / 1600°C (picco a breve termine) | Rugosità superficiale: | Ra 0,2 μm ~ Ra 0,4 μm |
| Resistenza chimica e al plasma: | Resistente ai plasma CF4, CHF3, SF6, Cl2, BCl3 | Capacità di lavorazione: | Fresatura CNC a 5 assi, scanalature a labirinto concentriche, fori svasati |
Precision Advanced Ceramics — Custom Semiconductor Plasma Etch Focus Ring & Pedestal Base Specialist Over a decade of dedicated expertise in high-purity advanced technical ceramics. Delivering high-precision engineered ceramic components for global semiconductor fabrication, wafer etching equipment, and precision vacuum systems. Product Overview Specification Table Summary : Alumina Purity: ≥ 99.8% (Al2O3) Bulk Density: ≥ 3.92 g/cm³ Surface Flatness: ≤ 0.003 mm (3 μm, Laser