| วัสดุ: | เซรามิกอลูมินาความบริสุทธิ์สูง (Al2O3 ≥ 99.8%) | ความเรียบของพื้นผิว: | ≤ 0.003 มม. (3 ไมโครเมตร) |
|---|---|---|---|
| ความเท่าเทียม: | ≤ 0.003 มม. (3 ไมโครเมตร) | ความหนาแน่นเป็นกลุ่ม: | ≥ 3.92 ก./ซม.³ |
| ความแข็ง: | 1550HV1/91HRA | ความเป็นฉนวน: | 25 กิโลโวลต์/มม |
| อุณหภูมิในการทำงานสูงสุด: | 1,400°C (ต่อเนื่อง) / 1,600°C (จุดสูงสุดระยะสั้น) | ความหยาบผิว: | รา 0.2 ไมโครเมตร ~ รา 0.4 ไมโครเมตร |
| ความต้านทานต่อสารเคมีและพลาสมา: | ทนทานต่อพลาสมา CF4, CHF3, SF6, Cl2, BCl3 | ความสามารถในการแปรร ป: | เครื่องกัด CNC 5 แกน, ร่องเขาวงกตศูนย์กลาง, รูเจาะ |
Precision Advanced Ceramics — Custom Semiconductor Plasma Etch Focus Ring & Pedestal Base Specialist Over a decade of dedicated expertise in high-purity advanced technical ceramics. Delivering high-precision engineered ceramic components for global semiconductor fabrication, wafer etching equipment, and precision vacuum systems. Product Overview Specification Table Summary : Alumina Purity: ≥ 99.8% (Al2O3) Bulk Density: ≥ 3.92 g/cm³ Surface Flatness: ≤ 0.003 mm (3 μm, Laser