| مواد: | سرامیک آلومینا با خلوص بالا (Al2O3 ≥ 99.8%) | صافی سطح: | ≤ 0.003 میلی متر (3 میکرومتر) |
|---|---|---|---|
| موازی سازی: | ≤ 0.003 میلی متر (3 میکرومتر) | چگالی حجیم: | ≥ 3.92 g/cm³ |
| سختی: | 1550 HV1 / 91 HRA | قدرت دی الکتریک: | 25 کیلو ولت بر میلی متر |
| حداکثر دمای عملیاتی: | 1400 درجه سانتی گراد (پیوسته) / 1600 درجه سانتی گراد (اوج کوتاه مدت) | زبری سطح: | Ra 0.2 میکرومتر ~ Ra 0.4 میکرومتر |
| مقاومت شیمیایی و پلاسما: | مقاوم در برابر پلاسماهای CF4، CHF3، SF6، Cl2، BCl3 | توانایی های ماشینکاری: | فرز CNC 5 محور، شیارهای هزارتوی متحدالمرکز، سوراخهای متحرک |
Precision Advanced Ceramics — Custom Semiconductor Plasma Etch Focus Ring & Pedestal Base Specialist Over a decade of dedicated expertise in high-purity advanced technical ceramics. Delivering high-precision engineered ceramic components for global semiconductor fabrication, wafer etching equipment, and precision vacuum systems. Product Overview Specification Table Summary : Alumina Purity: ≥ 99.8% (Al2O3) Bulk Density: ≥ 3.92 g/cm³ Surface Flatness: ≤ 0.003 mm (3 μm, Laser