products

Semiconductor 99.8% Alumina Ceramic Focus Ring

Podstawowe informacje
Miejsce pochodzenia: Chiny
Nazwa handlowa: YH
Orzecznictwo: ISO,CE
Numer modelu: YH
Minimalne zamówienie: 10
Cena: Negotiated
Szczegóły pakowania: przez caront lub drewnianą skrzynkę
Czas dostawy: 10-30 dni
Zasady płatności: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Możliwość Supply: 10000 sztuk miesięcznie
Najlepsza cena
Chat Now
Szczegóły informacji
Tworzywo: Ceramika z tlenku glinu o wysokiej czystości (Al2O3 ≥ 99,8%) Płaskość powierzchni: ≤ 0,003 mm (3 μm)
Równoległość: ≤ 0,003 mm (3 μm) Gęstość nasypowa: ≥ 3,92 g/cm3
Twardość: 1550 HV1 / 91 HRA Wytrzymałość dielektryczna: 25 kV/mm
Maksymalna temperatura robocza: 1400°C (ciągła) / 1600°C (krótkoterminowa temperatura szczytowa) Chropowatość powierzchni: Ra 0,2 μm ~ Ra 0,4 μm
Odporność chemiczna i plazmowa: Odporny na plazmę CF4, CHF3, SF6, Cl2, BCl3 Możliwości obróbki: 5-osiowe frezowanie CNC, koncentryczne rowki labiryntowe, otwory z pogłębieniem walcowym

opis produktu

Precision Advanced Ceramics — Custom Semiconductor Plasma Etch Focus Ring & Pedestal Base Specialist Over a decade of dedicated expertise in high-purity advanced technical ceramics. Delivering high-precision engineered ceramic components for global semiconductor fabrication, wafer etching equipment, and precision vacuum systems. Product Overview Specification Table Summary : Alumina Purity: ≥ 99.8% (Al2O3) Bulk Density: ≥ 3.92 g/cm³ Surface Flatness: ≤ 0.003 mm (3 μm, Laser

Szczegóły kontaktu
Julia

Numer telefonu : +8613789077799