| Miejsce pochodzenia: | Chiny |
|---|---|
| Nazwa handlowa: | YH |
| Orzecznictwo: | ISO,CE |
| Numer modelu: | YH |
| Minimalne zamówienie: | 10 |
| Cena: | Negotiated |
| Szczegóły pakowania: | przez caront lub drewnianą skrzynkę |
| Czas dostawy: | 10-30 dni |
| Zasady płatności: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
| Możliwość Supply: | 10000 sztuk miesięcznie |
| Tworzywo: | Ceramika z tlenku glinu o wysokiej czystości (Al2O3 ≥ 99,8%) | Płaskość powierzchni: | ≤ 0,003 mm (3 μm) |
|---|---|---|---|
| Równoległość: | ≤ 0,003 mm (3 μm) | Gęstość nasypowa: | ≥ 3,92 g/cm3 |
| Twardość: | 1550 HV1 / 91 HRA | Wytrzymałość dielektryczna: | 25 kV/mm |
| Maksymalna temperatura robocza: | 1400°C (ciągła) / 1600°C (krótkoterminowa temperatura szczytowa) | Chropowatość powierzchni: | Ra 0,2 μm ~ Ra 0,4 μm |
| Odporność chemiczna i plazmowa: | Odporny na plazmę CF4, CHF3, SF6, Cl2, BCl3 | Możliwości obróbki: | 5-osiowe frezowanie CNC, koncentryczne rowki labiryntowe, otwory z pogłębieniem walcowym |
Precision Advanced Ceramics — Custom Semiconductor Plasma Etch Focus Ring & Pedestal Base Specialist Over a decade of dedicated expertise in high-purity advanced technical ceramics. Delivering high-precision engineered ceramic components for global semiconductor fabrication, wafer etching equipment, and precision vacuum systems. Product Overview Specification Table Summary : Alumina Purity: ≥ 99.8% (Al2O3) Bulk Density: ≥ 3.92 g/cm³ Surface Flatness: ≤ 0.003 mm (3 μm, Laser