| Luogo di origine: | La Cina Yixing |
|---|---|
| Marca: | HY |
| Certificazione: | CE |
| Numero di modello: | HY-TCJP |
| Quantità di ordine minimo: | 10 pezzi |
| Prezzo: | negotiable |
| Imballaggi particolari: | Scatola di legno |
| Tempi di consegna: | 20-30 giorni lavorativi |
| Termini di pagamento: | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Capacità di alimentazione: | 10000 pc alle settimane |
| Al2o3: | ≥ 99% | Nome di prodotto: | Chip di base della ceramica dell'allumina |
|---|---|---|---|
| Colore: | Bianco | Densità: | ³ di 3.85g/cm |
| temperatura massima di uso: | 1500℃ | Forma: | Quadrato |
| Evidenziare: | componenti ceramiche dell'allumina di 99%,Componenti ceramiche dell'allumina AL2O3,Semiconduttore del circuito AL2O3 |
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Chip di base ceramico dell'allumina
nome di prodotto: Chip di base ceramico dell'allumina
descrizione di prodotto:
Come materiale del substrato, il substrato ceramico dell'allumina è ampiamente usato nell'industria elettronica di microonda e di rf. La sua alta costante dielettrica può fare il circuito miniaturizzato. La sua stabilità termica è buona, la deriva della temperatura è piccola, la forza del substrato e la stabilità chimica sono alte e la prestazione è migliore della maggior parte degli altri materiali dell'ossido. Può applicarsi ai vari tipi di circuiti del film spesso, circuiti del film sottile, circuiti ibridi, moduli del modulo di a microonde, il substrato ceramico dell'allumina ecc. può essere elaborato basato sul processo della litografia del film sottile e la sua accuratezza può raggiungere il livello del micron. Molti dispositivi passivi possono essere progettati basati sul substrato ceramico dell'allumina. Poiché la sua costante dielettrica è superiore a quella del substrato generale del PWB, la dimensione del dispositivo progettato è piccola, che presenta un vantaggio molto significativo nel trend di sviluppo di miniaturizzazione di vari moduli componenti. Il substrato ceramico dell'allumina svolge un ruolo importante nello sviluppo di radiofrequenza di microonda.
Applicazione dei circuiti del substrato ceramico dell'allumina
1 circuito della microstriscia del film sottile
filtro dal film sottile 2
carico del film sottile 3
Equalizzatore del film sottile 4
divisore di potere del film sottile 5
Attenuatore del film sottile 6
accoppiatore del film sottile 7
ponte del film sottile 8
resistenza del film sottile 9
condensatore di film sottile 10
indice dei prodotti:
| Tavola caratteristica ceramica | |||
| nome | 99% AL2O3 | 95% AL2O3 | |
| componente propertyessential fisica | componente essenziale | AL2O3≥99% | AL2O3≥95% |
| Densità (g/cm3) | 3,85 | 3,6 | |
| acqua absorption% | 0 | 0 | |
| temperatura di sinterizzazione | 1690 | 1670 | |
| caratteri materiali | Durezza (alta tensione) | 1700 | 1600 |
| interrompa la forza | >6500 | >2900 | |
| resistenza alla compressione | 30000 | 25000 | |
| risposta termica | ture massimo della tempera di servizio | 1500 | 1400 |
| coefficiente di espansione termica | 8 | 7,8 | |
| 10-6/℃ | |||
| 0-1000℃ | |||
| Resistenza di colpo di calore T (℃) | 200 | 220 | |
| conducibilità termica W/m.k | 31 | 22 | |
| specificazione elettrica | resistività di volume Ω.cm | >1012 | >1012 |
| Potere distruttivo KT/m dell'isolamento | 18 | 16 | |
| costante dielettrica 1MHZ (E) | 9.2-10.5 | 9.0-10 | |
Punti di processo di produzione del prodotto:
1 attrezzatura di modellatura riempiente di malta calda Pressa per matrici a secco della polvere 2 Polvere asciutta automatica 3 che forma attrezzatura
Officina ad alta temperatura del forno 4 che inforna un infornamento di 5 prodotti 6 unità di elaborazione
unità 7processing 8 unità di elaborazione una presentazione di 9 prodotti