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半導体用窒化アルミニウムセラミックス基板高熱伝導率

起源の場所:	中国
ブランド名:	YH
証明:	ISO,CE,Rohs
モデル番号:	YH

最小注文数量:	100
価格:	Negotiated
パッケージの詳細:	カートンによって
受渡し時間:	5-30DAYS
支払条件:	L/C、T/T、ウェスタンユニオン
供給の能力:	10000個/月

ベストプライス

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材料:	AIN セラミック	タイプ:	セラミック部品
応用:	工業用セラミックス	色:	グレー
サイズ:	顧客の要求、カスタマイズされたサイズ、0.5mm-95mm、図面によると、OEM	熱伝導率:	170-200W/mK
名前:	メタライズドセラミック/AIN基板、高温アルミナセラミックセッタープレート、アルミナセラミックロッド、アルミナセラミック精密部品、工業用セラミックアルミナセラミック材料ハニカムセラミック	形:	長方形、正方形、スリーブ、トレイ、チューブ
使用法:	工業用セラミックス、耐摩耗材、フィルター、産業用途、セラミックがいし
ハイライト:	窒化アルミニウム電気セラミックス , 半導体用セラミックス基板

製品の説明

半導体用窒化アルミニウム（AlN）電気セラミック基板 170 高熱伝導率ヒートシンク

次世代の高熱伝導材料として、窒化アルミニウム（AlN）セラミック基板の人気が高まっています。

これは、新しいLED照明、大規模集積回路、半導体モジュール回路、および高電力デバイスの冷却およびパッケージングに理想的なソリューションです。

プレミアム窒化アルミニウムシート - 優れた熱伝導率と電気絶縁性。

航空宇宙グレードのセラミックソリューションである当社の窒化アルミニウム（AlN）セラミック基板は、航空宇宙エレクトロニクスの厳しい要求を満たしています。

産業用制御デバイスは高電力負荷と極端な温度下で動作するため、熱管理は信頼性にとって不可欠です。

当社のAlNセラミック基板は、優れた熱伝導率と耐食性、電気絶縁性を兼ね備え、PLC、インバーター、産業用センサーで安定した性能を保証します。高度な産業用コンポーネントに信頼性の高い熱ソリューションを提供し、ダウンタイムを最小限に抑えます。

用途

窒化アルミニウムシート - 主要用途
：技術的優位性
高出力LEDチップ用ヒートシンク基板、発光効率と寿命を向上させます。2.  
パワーエレクトロニクス：IGBTモジュール、SiC/GaNデバイス、自動車用パワーコントロールユニット用絶縁基板。 3. 
半導体パッケージング：高周波・高信頼性IC用チップキャリアおよびパッケージベース。 4. 
RFおよびマイクロ波回路：5G通信、レーダーシステム、衛星コンポーネント用低損失基板。 5.  産業および自動車EVバッテリーシステム、レーザーダイオードクーラー、高温センサーハウジング用ヒートスプレッダー。
代替品を凌駕する性能
項目

	
			単位

			基準値

			試験方法

			熱伝導率

			W/m・K

			＞170

			過渡平面源法

			表面粗さ

			μm

			＜0.6

			スタイラス表面粗さ計

			反り

			 /

			＜2.5‰

			ガラスゲージ

			見かけ密度

			g/cm

			3≧3.26

			排水法

			曲げ強度

			MPa

			＞300

			三点曲げ抵抗法

			体積抵抗率

			Ω・cm

			1.5x10

			13(TYP)体積抵抗率計

			誘電率

			@1MHz

			4.6×10

			インピーダンス法

			破壊電圧

			@1MHz

			4.6×10

			-4(TYP)インピーダンス法

			破壊電圧

			Kv/mm

			36.85(TYP)

			DC電源法

			線膨張係数

			1×10

			-6/℃4.75(TYP)

			熱機械的

			各種

窒化アルミニウムシート図面および要件に従ってOEMおよびOBMが可能です。

優れた材料特性

：技術的優位性

* 高純度材料：不純物最小限の99%以上のAlN組成。 

* 先進的な製造：無加圧焼結技術により均一な密度を保証。 

* 精密エンジニアリング：±0.05mmの寸法公差を保証。* 複数の仕上げ：未焼成、研磨済み、または金属化された表面が利用可能です。 

品質認証* ISO 9001:2015認証製造* バッチ間の一貫性保証 
* 完全なトレーサビリティ文書  
* RoHS & REACH & CE準拠 
梱包
Hunan Yuanhong New Material Co.,Ltdは2016年に設立され、8000平方メートル以上の生産ワークショップに100セット以上のセラミック専門機器と数種類の炉があります。ISO9001認証を取得しており、さまざまな先進セラミック材料がROHSおよびREACH認証を取得しています。
よくある質問
 
Q1. 製品サンプルを提供していますか？ はい、在庫があればサンプルを提供します。場合によっては、少額のサンプル手数料がかかる場合があり、送料はお客様のご負担となります。
 
			Q2. どのような支払い方法が受け入れられますか？ T/T（銀行振込）による前払い、ウェスタンユニオン、Alipay、PayPalを受け付けています。
		
Q3. 通常の納期はどのくらいですか？ リードタイムは、材料の選択、寸法、特定の製造プロセスを含む製品要件によって異なります。
Q4. 出荷前に品質検査を行いますか？ はい、すべての商品を納品前に100%検査し、仕様基準を満たしていることを確認します。
 
Q5. 他にどのようなセラミック材料を提供していますか？ アルミナ、ジルコニア、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、加工可能なガラスセラミック、および関連する特殊セラミックなど、さまざまな先進セラミック材料を供給しています。

タグ:

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次世代の高熱伝導材料として、窒化アルミニウム（AlN）セラミック基板の人気が高まっています。

これは、新しいLED照明、大規模集積回路、半導体モジュール回路、および高電力デバイスの冷却およびパッケージングに理想的なソリューションです。

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カスタム加工 AINパーツアルミナイトリド Ain セラミックヒートシンク 3.26 g/cm3

単位	基準値	試験方法	熱伝導率
W/m・K	＞170	過渡平面源法	表面粗さ
μm	＜0.6	スタイラス表面粗さ計	反り
/	＜2.5‰	ガラスゲージ	見かけ密度
g/cm	3^≧3.26	排水法	曲げ強度
MPa	＞300	三点曲げ抵抗法	体積抵抗率
Ω・cm	1.5x10	13^(TYP)体積抵抗率計	誘電率
@1MHz	4.6×10	インピーダンス法	破壊電圧
@1MHz	4.6×10	-4^(TYP)インピーダンス法	破壊電圧
Kv/mm	36.85(TYP)	DC電源法	線膨張係数
1×10	-6^/℃4.75(TYP)	熱機械的	各種

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次世代の高熱伝導材料として、窒化アルミニウム（AlN）セラミック基板の人気が高まっています。

これは、新しいLED照明、大規模集積回路、半導体モジュール回路、および高電力デバイスの冷却およびパッケージングに理想的なソリューションです。

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