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Sustratos de alúmina de alta densidad 96 99 Al2O3 para empaquetado de semiconductores

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Precisión 99% Al2O3 Substrato cerámico Placa de óxido de aluminio Alta conductividad térmica

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Resistencia al desgaste 99% 96% Al2o3 Placa de colocación cerámica de alumina para cátodos de sinterización

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Grillado electrónico 96% 99% Placas de aluminio cerámicas Placas de sustrato resistentes al desgaste

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Al2O3 Substrato cerámico de alumina placa de disco de placa personalizada de alta temperatura 95% 99%

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Substrato cerámico de disipador de calor Placa de alumina alta 96% de aislamiento Substrato cerámico

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96 99 Substrato de aluminio Superficie pulida Resistencia al calor Tamaño personalizado

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